13.10.2008 Компания Panasonic сообщила, что будет внедрять 32-нм технологию производства полупроводников вместе с Renesas Technology (Япония). 

С помощью новой технологии они будут производить «системы на чипе» (SoC). В транзисторах таких микросхем в роли изолирующего слоя будет выступать окись металла, а в роли проводника – нитрид титана. Инженеры компаний уверены, что переход на 32-нм транзисторы позволит увеличить производительность микросхем, уменьшить их размеры и улучшить электрические характеристики. 

Ранее Panasonic и Renesas разработали 130-нм техпроцесс для производства микросхем DRAM в 2001 г., в 2002 г. успешно перешли на 90-нм технологию в производстве SoC и на 65-нм технологию – в 2005 г. В настоящий момент компании используют в производстве своих продуктов 45-нм техпроцесс, который был разработан ими в 2007 г. 

Renesas Technology является совместным предприятием Hitachi и Mitsubishi Electric.


Источник:  http://10-08.olo.ru