Дополнительно Panasonic и Renesas будут использовать технологии Complementary Metal-Insulator Semiconductor (CMIS) и Complementary Metal Oxide Semiconductor (CMOS) и ультратонкую подложку при производстве данных чипов. При этом данный подход позволяет производить обычным способом транзисторы использующие окисленный кремний в качестве изоляционной подложки между слоями транзисторов.
омпании сообщают, что это позволит улучшить надёжность транзисторов при реальном применении и уменьшит распределение электрических характеристик между транзисторами, что даст возможность конструировать более крупные электрические цепи. Пока нет информации когда именно 32 нм SoC от компаний Panasonic и Renesas появиться в продаже, но они говорят, что "он будет применяться в мобильных системах и домашних цифровых устройствах".